第四百六十二章 EUV  重写科技格局

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然说的也是实话,euv穿透物体时散射吸收都非常厉害,这使得光刻机需要非常非常强的光源,这个难度是巨大的。连空气都能吸收euv,所以机器内部还得做成真空的。

而且由于光刻精度是几纳米,euv对光的集中度要求极高,相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30c,这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

英特尔这些公开论文就是要让世人明白euv光刻机有多难,然后说英特尔取得了重大突破,至于什么突破,含糊其辞,用一句机密就解释了。

结果就在英特尔发公告的这一天,华夏突然宣布,将kbff晶体列为战略资源,不再对外出口...

孟谦看着新闻,突然有些莫名的兴奋,“看看谁先搞出euv光刻机吧...”

...


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